株式会社クレステック
【開発】電子線描画装置スペシャリスト/年休125日 ■1995年の設立以来「電子線描画技術」をコアに、ナノテクノロジー分野で研究開発を行ってきた半導体製造装置メーカー ■通信用半導体向け装置の為、需要増。日本を始め海外に事務所/代理店を構え、グローバルに事業を展開。| 想定年収 | 400万円～700万円 |
|---|---|
| 予定勤務地 | 東京都八王子市 |
募集要項
仕事の内容
■電子線描画装置(シリコン基板に4nmの超微細な線を描き、基板加工を行う装置)の設計・開発業務をお任せいたします※1つの装置を1～2名で担当 ご経験やキャリアに合わせまして、下記業務をお任せする予定です。
・新規機種の開発及び既存機種の性能向上
・装置全体を踏まえた上で以下項目の一つ以上をご担当
電子光学系(シミュレーション等を用いた物理設計)/機械系(電子線鏡筒、ステージ、真空計 等)/電気系(制御系、電子線鏡筒のアナログ回路、高圧電源 等)/ソフトウェア系(C言語、Linux 等)
・各顧客,案件毎のカスタマイズ対応・装置トラブルの原因究明、再発防止検討
必要な経験・能力等
【必須】■何かしらの装置や機械系ユニットの機械設計の経験
■CADの使用経験【歓迎】■真空装置や光学機器の設計経験
■搬送系機構ユニットの設計経験 ■加工・組立などの業務の経験
※当社機械は海外輸出比率が80％を占め、海外の顧客と英文メール・電話でのやり取りがあります。
※年1～2回程度の海外出張有り(中国、アメリカ、インド)現地通訳がいるため語学力は不要
配属先情報
■本社工場 技術部としては現在約10名のエンジニアが所属しております。
| 募集職種 | 【開発】電子線描画装置スペシャリスト/年休125日 |
|---|---|
| 学歴・資格 | 【学歴】大学院 大学 高専 短大 専修 高校 【語学力】 【資格】 第一種運転免許普通自動車 |
| 雇用形態 | 正社員 【期間の定め】無 |
| 賃金形態 | 【形態】月給制 【備考】月給\250,000～ 基本給\230,000～を含む/月 ■賞与実績:年2回、過去実績3.4か月 【諸手当】通勤手当（会社規定に基づき支給）、残業手当（残業時間に応じて別途支給） |
| 試用期間 | 有 【期間】6ヶ月 【備考】変更無 |
| 勤務地 | 勤務地① 【事業所名】本社 【所在地】東京都 八王子市 大和田町1-9-2 【最寄駅】 JR 八高線 北八王子駅 徒歩15分 【喫煙環境】敷地内禁煙（屋外喫煙可能場所あり） 【備考】■JR中央線「八王子駅」よりバス／バス停より徒歩5分 ※通勤の際は公共交通機関をご利用ください。 【転勤】無 |
| 就業時間 | 09:00～18:00（所定労働時間8時間） 【休憩】60分 【残業】有 【備考】 |
| 休日・その他制度 | 【制度・設備】
【休日】125日 自転車通勤可（全従業員利用可） 資格取得支援制度（全従業員利用可） 継続雇用制度(再雇用)（全従業員利用可） （内訳） 完全週休二日制 土曜 日曜 祝日 夏季4日 年末年始4日 その他（） 【有給休暇】有（12～20日） （連続取得可能◎ 取得率ほぼ100％！） 【退職金】有 【社会保険】健康保険 厚生年金保険 雇用保険 労災保険 【寮・社宅】無 【その他制度】作業服支給有り |
| 選考内容 | 【面接回数】3回程度（目安） 【筆記試験】無 【採用人数】1名 |
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企業情報
事業内容
■電子線描画装置の開発・製造・販売 ■受託加工サービス ■共同開発
| 設立 | 1995年02月 | ||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 代表者 | 代表取締役 町田 芳朗 | ||||||
| 従業員数 | 25名 | ||||||
| 平均年齢 | 43.5歳 | ||||||
| 資本金 | 45百万円 | ||||||
| 株式公開 | 非公開 | ||||||
| 主な株主 | 町田 芳朗 （67%） その他 （33%） | ||||||
| 本社所在地 | 〒192-0045 東京都八王子市大和田町１－９－２ | ||||||
| 本社以外の事業所 | ■英国事務所、スペイン事務所 | ||||||
| 関連会社 | ■海外代理店:オーストラリア/中国/インド/イスラエル/イタリア/メキシコ/北米/台湾 | ||||||
| その他備考・企業からのフリーコメント | 《株式会社クレステックについて》 ■創業以来「電子線(EB)の無限の可能性を形にする」というコンセプトで、「世界最高峰の超高分解能電子線描画装置(EBリソグラフィ)」を目標に、開発/製造/販売事業を展開。 ■現在、世界14ヶ国/地域にR&Dや生産用として「EBリソグラフィ」が利用されており、光通信用デバイス生産市場においては、「マスクレス直接描画法」を適用することで、従来比2.5倍以上の高歩留を実現しました。 ◎15年以上にわたり光通信用半導体レーザー(DFBレーザーデバイス）の装置メーカー向けに装置を提供し、安定企業を誇ります。 ■当社では受託加工も行っており、研究開発用の単品加工～生産用の複数枚継続加工までを行っております。また、共同開発も手掛けており、お客様の最先端新規デバイスの開発を「EBリソグラフィ」による超微細加工でサポートし、デバイスメーカーと共同で発振波長差0.008nmまで可能なDFB用パターン描画技術を開発。DFBレーザの生産に貢献しています。 | ||||||
| 決算情報 |
※決済単位：単体 |
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求人エントリー前後によくある質問
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